PEEK在晶圓清洗設(shè)備中的應(yīng)用能夠顯著提升設(shè)備的可靠性和穩(wěn)定性,同時(shí)降低因材料問(wèn)題導(dǎo)致的晶圓污染和損壞風(fēng)險(xiǎn),是半導(dǎo)體制造中理想的材料選擇。
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